多功能濕法設備(涂布| 蝕刻|顯影|沖洗|烘干全套服務)
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人氣：1234 發布時間：2009-06-04 15:30 關鍵詞：其它 產品型號： 應用領域：水處理 產品價格：面議 想了解更多產品詳情，請 |
蝕刻/顯影/清洗全套系統（etch, develop & cleaning processes）
多功能濕法設備技術參數：
• 型號8 系列為
• 數碼控制處理器
• 天然結實的聚丙烯材料NPP，并帶連鎖門
• 清晰可視的ECTFE圓頂蓋子
• 特氟隆材質的控制閥
• 可調節的氮氣擴散處理裝置
• 可調降流式排氣及排水（含
• 電動雙絕緣和超載保護
• 安全門聯鎖（不允許旋轉和試劑滴膠過程中打開處理腔）
• 安全門閉鎖（需要特別按鍵才能打開處理腔）
• 安全門鎖（當程序正在運行或運行結束后轉頭仍在旋轉時，處理腔無法打開。）
多功能濕法設備主要特點
• 不銹鋼壓力容器
• 雙重保護的ECTFE包裹不銹鋼壓力容器（通常為單一
• 多重輸出注射器
• 英制或公制尺寸非真空晶圓轉頭
• 帶微型支架的非真空轉頭
• 真空轉頭
• 真空轉接器（為小至
• 還可提供其他一些轉頭，可根據樣品或具體的尺寸，包括厚度和所有公差要求來自定義。
儀器介紹
蝕刻/顯影/清洗全套系統是一種靈活，安全和實惠的研發工具，蝕刻/顯影/清洗全套系統EDC 系列常被應用在以溶劑和水為基礎的處理過程：蝕刻-清洗-干燥，開發-沖洗-干燥，以及利用溶劑和水的清洗。其旋轉涂敷機部分，具有多種板載滴膠閥的零孔隙度特富龍流體路徑等特點，干凈的ECTFE圓頂蓋使用戶能夠實時觀察過程的安全運行，記事是每一單步處理過程模式也可以（我們獨有的性能）。
蝕刻/顯影/清洗全套EDC 系統具有可編程閥，它可以使單注射器試劑滴膠按照蝕刻，開發和清洗應用的要求重復進行，如沖洗（通常是去離子水或溶劑），然后干燥（通常是氮氣）等最后的處理步驟。蝕刻/顯影/清洗全套系統采用此序貫閥門技術的晶圓片和管道在完全干燥的環境中開通和關閉處理過程。隔離和獨立的給水器可處在靜態的位置還可以蓋內調節。蝕刻/顯影/清洗全套系統還有可選擇的動態線性或徑向滴膠的特性。雖然在這些過程中常采用非真空轉頭，蝕刻/顯影/清洗全套系統仍然具備真空下壓能力。當邊緣控制型或真空型轉頭附上稱底時，門插銷、門鎖和電氣聯鎖為此提供多重保護，也包括大容積的廢液和廢氣排出口。
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