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芯片生產廢水處理技術探討

更新時間:2011-01-19 14:21 來源:給水排水 作者: 閱讀:1655 網友評論0

摘要:通過實地調研,結合工程經驗,采用比較分析的方法,就芯片生產廢水中典型的含氨廢水、含氟廢水、研磨廢水和酸堿廢水的處理分別給出了較優的處理工藝流程,即濃氨吹脫—兩段沉淀—三級酸堿中和處理工藝,其處理效果較好,將含氟廢水與CMP 研磨廢水混合處理可節省投資。同時,介紹了設備選型中應注意的問題。

關鍵詞:芯片生產廢水,設備選型,含氟廢水

自2000 年國家“十五”規劃的行業鼓勵性政策出臺,中國芯片產業掀起一輪前所未有的投資熱潮,全球著名的芯片廠商,如德州儀器、英特爾、AMD等,紛紛在中國建立合資或獨資公司。然而關于芯片生產廢水排放的國家和地方標準尚未出臺。本文結合工程實例,通過調研分析得出最優工藝流程,并指出設備選型中應注意的問題。

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